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组织结构类

X射线光电子能谱仪

来源: 发布时间:2019-05-25 15:55:40 浏览次数: 【字体:


1、仪器型号Axis Ultra DLD  (日本岛津公司)

 

2、主要技术参数

 

1) 分辨率:

聚焦型大束斑

0.48eV@400kcps(Ag 3d5/2)

大束斑:

1.5Mcps@0.6eV(Ag 3d5/2)

小束斑(15μm)

0.6eV@2.4kcps(Ag 3d5/2)

2) X射线源: 大功率Al 单色阳极和非单色双阳极

3能量分析器

165mm双聚焦半球分析器(内层,采谱)

同心球镜双聚焦半球分析器(外层,成像)

4) 检测器:二维阵列延迟线(DLD),采谱与成像

5) 荷电中和:全自动同轴超低能单电子源;

6样品台倾角± 90º

 

 

3、功能介绍

XPS 主要用于固体表面和界面的化学信息。可以分析除氢、氦以外的所有元素,包括元素种类及价态。并可以提供测定元素相对含量的半定量分析。XPS与成像功能和离子溅射刻蚀相结合,可以用于固体表面元素成分及价态的面分布和深度剖析。XPS在各类功能薄膜的机理研究、纳米材料、高分子材料、材料的腐蚀与防护、催化剂研究与失效分析等方面广泛应用。结合其它表征技术,可以对腐蚀、催化、包覆、氧化等过程进行研究。


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